理想晶延半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱“理想晶延”）近日披露的輔導信息顯示，公司將赴科創板上市。

理想晶延成立于2013年，其是一家以 CVD（化學氣相沉積）技術為核心，覆蓋半導體及泛半導體領域的高端設備供應商，主要從事太陽能光伏電池、光電子、集成電路制程、封測領域的關鍵設備及相關輔助設備研發、制造和銷售。

目前，理想晶延已經推出了原子層沉積 （ALD）設備、等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、銅銦鎵硒（CIGS）蒸鍍等太陽能電池生產中關鍵工藝設備及相關輔助設備、應用于光電子領域的金屬有機物化學氣相沉積 （MOCVD）設備等。

公開資料顯示，原子層沉積ALD屬于化學氣相沉積的一種，其具備成膜均勻性好、薄膜密度高、臺階覆蓋性好、低溫沉積等優點。2014年起，理想晶延開始布局高效光伏背鈍化設備開發，采用國際先進的ALD（原子層沉積）技術，自主研發了氧化鋁背鈍化ALD設備。

《科創板日報》記者了解到，增加背鈍化層，可以降低背表面符合，提高背內面反射率，而常用的介質鈍化材料除了氧化鋁外，還包括氮化硅、氧化硅、氮氧化硅，其中氧化鋁薄膜生長及工藝率先取得突破。

據了解，至2016年ALD市場份額不足10%，但從2018年開始至今新增的PERC（背鈍化高效太陽能電池）產能中的ALD工藝路線占比已超過60%。

公司官網顯示，截至2019年1月，理想晶延已累計出貨ALD設備100臺（合計產能超過15GW）。

另外，理想晶延產品之一MOCVD設備面臨著與國內MOCVD設備龍頭——中微公司的競爭，后者拳頭產品Prismo A7打破國際壟斷，已大批量進入主流廠商LED產線，逐步實現進口替代。

除光伏領域外，2019年底，“理想晶延”通過收購了一家位于新加坡的高端半導體智能裝備公司，開始布局半導體智能裝備領域。

而在股權結構方面，截至上述輔導信息披露日，理想晶延股東共計 20 名，其中正泰集團股份有限公司（以下簡稱“正泰集團”） 直接持有公司 1665萬股股份，占公司總股本的 29.891%；通過溫州輝泰、上海聯晶間接控制公司 237.35萬股股份，占公司總股本的 11.870%。因此，正泰集團合計控制理想晶延41.761%股份，系公司的控股股東。

南存輝通過正泰集團、溫州輝泰及上海聯晶間接控制理想晶延合計41.761%的股份，系理想晶延實際控制人。值得注意的是，正泰集團同時也是上市公司正泰股份的大股東，南存輝系正泰股份的實際控制人，這也意味著，若理想晶延最終登陸科創板，南存輝將迎來其作為實控人的第二家上市公司。

另外，容煜半導體技術（上海）有限公司持有理想晶延17.561%的股份，為公司第二大股東。